フォトテクニカ株式会社

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  • Pharos STW

    世界の革新的独創的レーザ・電子光学機器提供します。

  • Orpheus-F & Pharos G54 9483

    最先端レーザーによる各種材料サンプルのテスト加工に対応します。


  • 機器のメンテナンス・移設高度な技術サービス提供します。

  • mian_visual4_30th

    薄膜密着強度測定機受託測定および消耗品も提供します。

新製品NEWS 

◆ 空冷LD 励起一体型波長可変OPO システム Q-TUNE(QL 社製)                     シームレスレーザ&OPO, 高調波ユニットが高度に集積。
ターンキー操作で紫外から中赤外域までハンズフリー
チューニング可能。LIF ・フラッシュフォトリシス等に最適。                         ●admin@tnlf.tw,          210(SH)-410-2300nm,
ライン線幅<6cm , 10 Hz
●admin@tnlf.tw, 100Hz    

◆幅広い産業⽤途に使⽤可能なピコ・ナノ秒レーザ   (Grace Laser 社製)                ●ダイオード励起QCW ピコ秒UVレーザ
GENIUS:150mW/350mW@355nm
産業⽤⾼出⼒ピコ秒レーザ BLAZER :
10W〜50W@1064nm, 532/355nm
●⾼エネルギーピコ秒モードロックレーザ
BLAZER-P: 1〜200mJ@1064nm, ~10kHz
●⾼出⼒産業⽤ダイオード励起ナノ秒レーザ
GRAVER : 35W@1064nm, 30kHz〜150kHz               

4K 高解像度CMOS 超高速分光器
AvaSpec-ULS4096CL-EVO (Avantes社製)            5Gbps 通信&1Gbps 伝送、多メモリー保存、外部トリガー等実現したEVO と4096 CMOSディテクターにより高パフォーマンス更新。                            ・最短露光時間: 9μs            ・最小波長分解能>0.05nm
・高S/N 値: 335 : 1            ・高ダイナミックレンジ4000プラズマ計測/ LIBS / ラマン分光用途/産業用プロセスコントロール等に最適

  • レーザ発振器

  • レーザ計測・制御

  • レーザ保護メガネ

  • レンズ・光学部品

  • 分光器

    Mini-MKⅡ+background_227x142_2018

  • スペクトルイメージング

    HOME_multi-spectral-imaging_2016.08

  • 薄膜計測

  • その他取扱製品

    background+core-fiber-

 

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If you will call your troubles experiences, and remember that every experience develops some latent force within you, you will grow vigorous and happy, however adverse your circumstances may seem to be - John Heywood, Playwright